碳化硅薄膜在低輻射鍍膜玻璃中的應用

1、現狀

　　近年來，在可鋼化low-e玻璃（大板膜玻）在我國得到一定的推廣，但是整體質量并不夠高，因為現有的low-e玻璃抗機械劃傷性能不夠高，抗高溫氧化能力還不夠強，高性能產品成本很高，因此解決上述問題已經迫在眉睫。

　　在大面積鍍膜領域，SiNx介質層膜的應用越來越廣泛。SiNx具有較好的抗腐蝕、抗機械劃傷的、抗高溫氧化能力。因此SiNx作為外層保護層來使用，目前出現的可鋼化low-e玻璃的外層也是用的SiNx材料。可鋼化low-e玻璃投入市場使得low-e玻璃的應用得到了很大范圍的推廣。但是low-e玻璃在民用建筑領域使用的還是不夠廣泛，其重要的問題就是成本較高。降低low-e玻璃的成本將成為普及low-e玻璃的重要議題，也將成為各大玻璃加工企業熱門的話題。Low-e玻璃成本的主要是由于生產成本太高，解決生產成本的有效的途徑是提高生產效率。在目前大多數企業是提高玻璃在鍍膜機中的走速、提高濺射靶材的功率來提高效率降低成本的。在保證low-e玻璃膜層厚度的時候，玻璃的走速越快與之對應的濺射靶材功率將越高。在low-e玻璃膜層中介質層SiNx的厚度很厚。隨著硅鋁靶的功率提高，掉渣問題會越來越嚴重。其根本原因受到硅鋁靶濺射速率的限制。

　　2、碳化硅材料的介紹

　　碳化硅（SiC）是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑為原料通過電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見的礦物，莫桑石。碳化硅又稱碳硅石。在當代C、N、B等非氧化物高技術耐火原料中，碳化硅為應用廣泛、經濟的一種。可以稱為金鋼砂或耐火砂。碳化硅是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生產綠色碳化硅時需要加食鹽）等原料在電阻爐內經高溫冶煉而成。碳化硅晶體結構分為六方或菱面體的α-SiC和立方體的β-SiC（稱立方碳化硅)。α-SiC由于其晶體結構中碳和硅原子的堆垛序列不同而構成許多不同變體，已發現70余種。β-SiC于2100℃以上時轉變為α-SiC。碳化硅的硬度很大，莫氏硬度為9.5級，僅次于世界上硬的金剛石（10級），具有優良的導熱性能，是一種半導體，高溫時能抗氧化。

-轉自中國玻璃網